微信客服
首頁 / 產品與服務 > 金屬靶材 > 鉬靶材
鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質量金屬材料,由于鉬的高熔點和熱穩(wěn)定性,鉬靶材在高溫濺射工藝中表現(xiàn)優(yōu)質,具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學純度以確保薄膜沉積過程中的高質量和可靠性;還擁有均勻的微觀結構,有助于產生均勻、穩(wěn)定的薄膜。鉬靶材被廣泛應用于半導體制造中,用于制備導電層、光學薄膜和其他功能性薄膜。在光學領域,鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學涂層和其他光學元件。
品名
鉬靶材
成分
Mo
外觀
銀白
純度(%)
≥99.95%
相對密度
≥99.9%
規(guī)格(mm)
?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18
雜質≤ (ppm)
Fe
Al
Si
Ni
Cu
Cr
Sum
100
50
500
上一篇
下一篇
咨詢熱線
0731-22395998
咨詢熱線(微信同號)
+86 173 9733 1350
Copyright © 2023 株洲火炬安泰新材料有限公司 地址:湖南省株洲市天元區(qū)湘蕓路2586號 營業(yè)執(zhí)照查閱 湘ICP備2022024378號-1 網站地圖
技術支持:競網智贏