鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質(zhì)量金屬材料，由于鉬的高熔點和熱穩(wěn)定性，鉬靶材在高溫濺射工藝中表現(xiàn)優(yōu)質(zhì)，具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學(xué)純度以確保薄膜沉積過程中的高質(zhì)量和可靠性；還擁有均勻的微觀結(jié)構(gòu)，有助于產(chǎn)生均勻、穩(wěn)定的薄膜。鉬靶材被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中，用于制備導(dǎo)電層、光學(xué)薄膜和其他功能性薄膜。在光學(xué)領(lǐng)域，鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學(xué)涂層和其他光學(xué)元件。
立即咨詢|
品名 |
鉬靶材 |
||||||
|
成分 |
Mo |
||||||
|
外觀 |
銀白 |
||||||
|
純度(%) |
≥99.95% |
||||||
|
相對密度 |
≥99.9% |
||||||
|
規(guī)格(mm) |
?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18 |
||||||
|
雜質(zhì)≤ (ppm) |
Fe |
Al |
Si |
Ni |
Cu |
Cr |
Sum |
|
100 |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
500 |
|
